《Journal Of Vacuum Science & Technology A》重点专注发布材料科学:膜-工程技术领域的新研究,旨在促进和传播该领域相关的新技术和新知识。鼓励该领域研究者详细地发表他们的高质量实验研究和理论结果。该杂志创刊至今,在材料科学:膜-工程技术领域,有较高影响力,对来稿文章质量要求较高,稿件投稿过审难度较大。欢迎广大同领域研究者投稿该杂志。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 5.1 | 0.569 | 0.957 | 学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
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大类:PhysicsandAstronomy
小类:CondensedMatterPhysics
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Q2 | 135/434 |
69%
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大类:PhysicsandAstronomy
小类:SurfacesandInterfaces
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Q2 | 19/57 |
67%
|
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大类:PhysicsandAstronomy
小类:Surfaces,CoatingsandFilms
|
Q2 | 45/132 |
66%
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| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
|---|---|---|---|---|
| 学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 13 / 23 |
45.7%
|
| 学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6%
|
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
|---|---|---|---|---|
| 学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 12 / 23 |
50%
|
| 学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12%
|
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
材料科学
3区
|
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜
3区
|
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
材料科学
2区
|
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜
3区
|
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
材料科学
3区
|
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜
3区
|
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
工程技术
4区
|
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜
4区
|
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
材料科学
3区
|
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜
3区
|
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
材料科学
2区
|
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜
2区
|
文章名称
引用次数
Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects
72
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition
26
Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements
23
Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition
19
Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition
16
Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film
14
Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development
14
Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook
13
Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices
12
Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry
11
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